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本发明提供能将转印于树脂层的微细图案的形状稳定性的影响降低到最小限度，同时可抑制掩模内固化侵蚀的结构体的制造方法。本发明提供一种结构体的制造方法，具备如下工序：层叠体形成工序，形成在透明基材上具备树脂层的层叠体，所述树脂层由压印用光固化性树...
该专利属于综研化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过综研化学株式会社授权不得商用。

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