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本发明提供一种用于处理腔室的工艺内衬和物理气相沉积设备。所述工艺内衬具有环形结构，用于遮挡物理气相沉积腔室的内壁，所述工艺内衬包括：主体，所述主体由第一材料制成；以及外围层，所述外围层包覆所述主体，且由不同于所述第一材料的第二材料制成，所述...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。