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本发明涉及一种气相沉积装置，包括反应腔体(1)，还包括反应物注入组件、真空减压组件和温度控制组件，所述的反应物注入组件和真空减压组件均与反应腔体(1)连通；将基底物(2)放入反应腔体(1)中，用真空减压组件将反应腔体(1)抽真空后，关闭真空...
该专利属于同济大学所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学授权不得商用。

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