下载一种制造高效率多晶电池的工艺的技术资料

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本发明公开了一种制造高效率多晶电池的工艺,依次包括硅片表面制绒、扩散、刻蚀、氮化硅薄膜沉积、印刷烧结步骤,其特征在于:在所述的硅片表面制绒步骤与扩散步骤之间增加反应离子刻蚀制绒步骤,在所述的刻蚀步骤和氮化硅薄膜沉积步骤之间增加镀Al2O3膜...
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