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本申请提供了一种光罩以及光罩或晶圆沾污的检测方法。该光罩包括版图，版图包括对准标记，对准标记的个数不少于三个。在进行晶圆的光刻时，光刻机根据不少于三个的对准标记处的光罩膨胀系数与光罩旋转系数计算出晶圆的光罩膨胀系数与光罩旋转系数，这样得出的...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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