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本发明涉及半导体技术领域，公开了一种掩膜板及其制作方法。所述掩膜板包括图形区域和位于图形区域外围、与图形区域的每一侧边对应的对位图形，所述对位图形位于对应侧边所在直线的外侧。且在与所述图形区域每一侧边垂直的方向上，对应的所述对位图形的尺寸为...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司授权不得商用。