温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

公开了用于选择性蚀刻工件上的氧化物和氮化物材料的技术。这样的技术包括用于借助于由点燃等离子气流而产生的远程等离子体来蚀刻工件的方法。通过控制等离子体气流的不同组分的流率，可以获得呈现出期望的蚀刻特性的等离子体。这样的等离子体可以用在单蚀刻操...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。