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本发明较佳实施例是公开一种热处理制作工艺。首先提供一待加热的半导体基底，然后利用至少两个具有不同能量密度的第一加热光束及第二加热光束同时对该半导体基底进行加热。由此，本发明除了可省略现有进行热处理制作工艺时需切换不同机台的麻烦并缩短制作工艺...
该专利属于青岛泰威机床有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛泰威机床有限公司授权不得商用。

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