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本发明的实施方式公开沉积用掩模制造方法，该方法包括：将光致抗蚀剂层涂覆到衬底的一面并经过曝光及显影工艺以在衬底的一面形成光致抗蚀剂图案的步骤；对通过光致抗蚀剂图案暴露的所述衬底进行湿法蚀刻(wet etching)以在衬底的一面形成多个图案...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

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