温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种晶片连续清洗烘干装置，由碱液喷淋装置、第一清水喷淋装置、活化剂喷淋装置、第二清水喷淋装置、酒精喷淋装置以及烘干装置依次排列组成；通过合理的结构布局，实现了晶片碱液清洗、清水漂洗、活化剂清洗、再次清水漂洗、酒精置换、热风烘...
该专利属于苏州普锐晶科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州普锐晶科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。