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本实用新型公开了一种类金刚石薄膜离子源中离子的引出装置，包括安装于保护外壳左端的隔板，隔板中部横向安装有工艺气体进气管，隔板左端面安装有内部挡板，内部挡板外周的隔板上固定有安装法兰，安装法兰上安装有离子源挡圈，内部挡板外侧间隔安装有工艺气体...
该专利属于安徽纯源镀膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽纯源镀膜科技有限公司授权不得商用。

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