温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本实用新型公布了一种提升材料生长产能和改善均匀性的样品托盘,包括样品托盘本体,所述样品托盘本体上端面的选定区域内分布有两个以上第一片槽,而所述样品托盘本体上端面上除所述选定区域之外的其余区域内还分布有至少一第二片槽,所述第一片槽的直径为4英...该专利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本实用新型公布了一种提升材料生长产能和改善均匀性的样品托盘,包括样品托盘本体,所述样品托盘本体上端面的选定区域内分布有两个以上第一片槽,而所述样品托盘本体上端面上除所述选定区域之外的其余区域内还分布有至少一第二片槽,所述第一片槽的直径为4英...