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本发明的优选实施例提供了一种曝光量测装置及其量测平台，用于量测基板上曝光图案的临界尺寸及覆盖数据。所述曝光精度量测装置包括：整体式上板，具有上表面，所述上表面用于承载基板；整体式下板，设置于所述整体式上板下方；以及多个高度调整机构，设置于所...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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