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本发明公开了一种湿法化学刻蚀制备黑硅的方法，包括以下步骤：（1）用氢氟酸和硝酸混合液或强碱去除硅片表面的损伤层；（2）用金属盐和氢氟酸混合液在硅片表面沉积金属，或利用磁控溅射方法在硅片表面形成一层贵金属膜；（3）用氢氟酸和高碘酸钾混合液刻蚀...
该专利属于江苏辉伦太阳能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏辉伦太阳能科技有限公司授权不得商用。

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