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某些ＭＥＭＳ装置包含经图案化以具有锥形边缘的层。一种形成具有锥形边缘的层的方法包含使用蚀刻前导层。另一种形成具有锥形边缘的层的方法包含沉积其中上部部分可以比下部部分快的速率蚀刻的层。另一种形成具有锥形边缘的层的方法包含使用多个反复蚀刻。另一...
该专利属于高通MEMS科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过高通MEMS科技公司授权不得商用。

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