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本文公开的是硅基薄膜和用于形成所述薄膜的组合物和方法。所述硅基薄膜包含<50原子％的硅。一方面，所述硅基薄膜具有组成SixCyNz，其中通过XPS测量，x为约0到约55，y为约35到约100，和z为约0到约50原子重量(wt.)百分比...
该专利属于气体产品与化学公司所有，仅供学习研究参考，未经过气体产品与化学公司授权不得商用。

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