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本文中所揭露的实施方式涉及用于半导体处理腔室中的圆形灯阵列。利用设置于反射槽中且以同心圆图案布置的一或更多个环形灯的圆形灯阵列可提供改进的快速热处理。可安放环形灯的反射槽可相对于被处理的基板表面而以不同角度设置。...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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