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本发明提供了一种极紫外波段宽带Mo/Si多层膜的制备方法，包括以下步骤：依据目标宽带Mo/Si多层膜的指标，采用两层模型进行膜系设计，获得Mo/Si膜系厚度序列；依据所述Mo/Si膜系厚度序列，采用有效厚度法标定各周期Mo膜层和Si膜层分别...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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