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一种具有带有多个独立可控加热器区域的基板支承组件的等离子体蚀刻系统。该等离子体蚀刻系统被配置用来控制预定位置的蚀刻温度，以便可以补偿关键器件参数蚀刻前和蚀刻后的不均匀性。...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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