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本发明涉及半导体生产设备中提高热盘性能指标的装置，具体地说是一种半导体热盘上的陶瓷球微调装置。包括底板、二维移动平台、热盘、陶瓷球、陶瓷球挤压装置、升降机构及真空吸取装置，其中热盘设置于底板上、并盘体上设有多个分别容置于单独凹槽内的陶瓷球，...
该专利属于沈阳芯源微电子设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备有限公司授权不得商用。

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