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本发明属于磁共振气室的镀膜方法，特别是一种磁共振气室的抗弛豫镀膜方法。在本发明技术方案中，重点介绍了镀膜材料的选择、镀膜工艺及镀膜前后对气室的处理方法。该方法成膜效果好，膜层薄、厚度均匀、耐高温、操作简单、安全性高，有效的提高了气室的抗弛豫...
该专利属于北京自动化控制设备研究所所有，仅供学习研究参考，未经过北京自动化控制设备研究所授权不得商用。

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