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本发明提供一种沟道替换工艺的监测方法，包括：提供外延形成替代沟道后的衬底的质量目标值以及其容差范围；提供具有鳍的衬底，去除鳍以形成开口；在开口中外延形成替代沟道；获得形成替代沟道后的衬底的质量；判断该质量是否在质量目标值的容差范围内。该方法...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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