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本发明提供了一种反应腔室及半导体加工设备，该反应腔室包括卡盘和等离子产生装置，卡盘设置在反应腔室内，用于承载基片；等离子体产生装置用于产生等离子体并向反应腔室内输送该等离子体，该反应腔室还包括支撑件，支撑件用于支撑等离子体产生装置，以实现等...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。