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本发明实施例公开了一种刻蚀终点检测系统，应用于等离子刻蚀腔，包括：光源、单色光谱仪和处理器，单色光谱仪具有狭缝入口，狭缝入口通过第一光纤与光源相连，通过第二光纤与等离子刻蚀腔相连，光源用于发射光谱线，单色光谱仪用于对狭缝入口射入的光谱线进行...
该专利属于上海陛通半导体能源科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海陛通半导体能源科技有限公司授权不得商用。

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