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本发明涉及晶圆在热盘内工艺时需形成密闭腔的装置,具体地说是一种热盘工艺密闭腔自动调整装置。包括驱动机构、盘盖升降机构、盘盖、密封环、下密封体、盘体及底板,其中驱动机构和下密封体安装在底板上,所述盘体设置于下密封体内,所述盘盖设置于密封体的上...该专利属于沈阳芯源微电子设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过沈阳芯源微电子设备有限公司授权不得商用。
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本发明涉及晶圆在热盘内工艺时需形成密闭腔的装置,具体地说是一种热盘工艺密闭腔自动调整装置。包括驱动机构、盘盖升降机构、盘盖、密封环、下密封体、盘体及底板,其中驱动机构和下密封体安装在底板上,所述盘体设置于下密封体内,所述盘盖设置于密封体的上...