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提供了一种用于基板抛光的装置，所述装置包括用于调节抛光垫表面的调节器系统和具有真空口的真空系统。所述调节器系统包括调节器机头，所述机头构造用于容纳研磨调节器的部件。所述真空系统被配置成按照远离抛光垫表面的方向，通过真空口施加吸力到所述抛光垫...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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