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本发明提供一种化学机械抛光垫，其含有：具有组合物和抛光表面的聚氨基甲酸酯抛光层；其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值；其中所述抛光表面被调适用于抛光衬底；且其中所述抛光表面展现≥80％的调整耐受性。...该专利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司授权不得商用。