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本发明是一种永磁弹射掩模台弹射区电机出力最小轨迹规划方法。所述方法是基于一种永磁弹射掩模台往复扫描运动，根据其运动特征和是否存在永磁弹射力，把掩模台的运动区间划分为非弹射区和弹射区。需根据弹射区的运动需求和运动的对称性，以电机出力最小为优化...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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