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一种半导体器件及其形成方法，半导体器件的形成方法包括：提供具有第一区域和第二区域的衬底，衬底表面具有介质层，第一区域的介质层内具有暴露出衬底表面的第一开口，第二区域的介质层内具有暴露出衬底表面的第二开口，第一开口的底部具有第一栅介质层，第二...
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