温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本实用新型提供一种监测下层金属层间是否桥连的测试结构，所述测试结构至少包括：从内向外依次包围的至少两组下层金属封闭结构，其中一组下层金属封闭结构接地，与该接地的下层金属封闭结构相邻的一组下层金属封闭结构定义为金属接触层；至少两组上层金属结构...该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。