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本发明实施例提供一种薄膜图案化的方法，涉及显示技术领域，能够解决制作线宽较小的薄膜层图案时，由于掩膜版开口区域较小，使得曝光不足，而引起的成膜缺陷。所述方法包括在基板的表面依次形成薄膜层和光刻胶；通过掩膜版对光刻胶进行第一次曝光，形成第一半...该专利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。