下载具有内置二极管的IGBT器件背面工艺的技术资料

文档序号:12663337

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本发明涉及一种具有内置二极管的IGBT器件背面工艺,其包括如下步骤:a、得到正面元胞结构;b、对晶圆背面进行减薄;c、在离子注入后的晶圆背面上涂覆光刻胶层;d、提供光刻机;e、确定notch区坐标;f、根据上述notch区坐标、金属层套刻对...
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