专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
东京毅力科创株式会社
>
等离子体处理装置以及等离子体处理方法制造方法及图纸
>技术资料下载
下载等离子体处理装置以及等离子体处理方法的技术资料
文档序号:12653573
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种能够在步骤切换后使等离子体迅速地稳定从而能够进行适当的等离子体处理的等离子处理装置以及等离子处理方法。控制装置(16)在第一步骤中以第一能量条件来驱动高频波产生源(1),在第二步骤中以第二能量条件来驱动高频波产生源(1)。在第...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。