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本发明公开了一种遮光层的制作方法包括：提供一阵列基板；在所述阵列基板背面上涂敷感光光阻；将预先制作好的纳米压印模具贴合在所述阵列基板背面上，以使所述感光光阻填充到所述纳米压印模具上的空腔上；对涂敷有所述感光光阻的所述阵列基板背面进行曝光，将...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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