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本实用新型公开一种用于防止晶片背面污染的显影装置，包旋括转真空吸柱(1)、晶片(2)、内部旋转挡板(3)和护圈(4)，晶片水平放置在旋转真空吸柱的正上方，内部旋转挡板布置在晶片的下方位于旋转真空吸柱外侧，护圈安装在内部旋转挡板与晶片之间，内...
该专利属于徐州同鑫光电科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过徐州同鑫光电科技股份有限公司授权不得商用。

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