下载一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统的技术资料

文档序号:12565569

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本发明涉及一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统,其包括:依次排列的波荡器光源、多个反射聚焦镜、掩膜光栅、具有光阑孔的级选光阑、具有观察孔的样品台、铝膜以及CCD探测器。本发明通过在掩膜光栅与样品之间增设级选光阑,并通过CCD探测器确保掩膜光...
该专利属于中国科学院上海应用物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海应用物理研究所授权不得商用。

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