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本发明的抗蚀剂图案形成方法含有：抗蚀剂层形成步骤(S101)，在基板(11)上形成抗蚀剂层(12)；活性化步骤(S103)，通过活性能量束的照射将所述抗蚀剂层活性化；衰减抑制步骤(S105)，对所述抗蚀剂层的活性衰减进行抑制；图案潜像形成步...
该专利属于国立大学法人大阪大学所有，仅供学习研究参考，未经过国立大学法人大阪大学授权不得商用。

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