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一种同时形成一维和二维光刻胶图形的方法，包括：第一步骤，在第一掩膜版上设计一维图形，设计二维图形的第一线条图形；第二步骤，在第二掩膜版上设计一维图形的保护图形以及二维图形的第二线条图形；第三步骤，在需形成一维和二维光刻胶图形的硅片上进行光刻...
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