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本发明公开一种配备有开孔挡板的真空镀膜机系统，真空镀膜过程中，为优化薄膜分布，光学元件在镀膜机内做旋转运动，使得光学元件上任意位置处膜料沉积角均具有较宽的分布范围，而且不同位置上膜料沉积角分布范围存在明显差异，同时薄膜厚度分布均匀性较差。本...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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