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本实用新型涉及一种用于吸收气体中的单成分的设备，在该设备中，吸收溶液在吸收室(13)中与气体接触，其中，吸收溶液经由配备有喷洒喷嘴的喷洒平面(14)引入到吸收室(13)中，并且其中，吸收室(13)在气体输送部(16)上方具有气体分配平面(1...
该专利属于安德里特斯公开股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安德里特斯公开股份有限公司授权不得商用。

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