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本发明方法提出一种光刻套准补正的方法，主要是对正向或负向扫描方向的曝光单元分别抽样量测其套准结构，再通过对应的计算程式计算出正向或负向的套准补偿值，最后反馈光刻机，按曝光单元的曝光扫描方向分别进行套准补正。本发明方法，在不对光刻机硬件进行改...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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