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本发明公开了一种薄膜电子器件的生产控制方法、装置及系统，其中，所示方法包括：利用第一掩模版完成第一刻蚀并获得第一电路图形后，检测所述第一电路图形的实际性能参数；计算所述实际性能参数与所述薄膜电子器件的目标性能参数之差；根据计算结果，确定所述...
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