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本发明是关于一种掩模图形的制造方法和掩模图形，属于显示技术领域。所述方法包括：在曲面衬底基板上形成膜层；在所述膜层上形成目标掩模图形，所述目标掩模图形包含有多个图形单元，每个所述图形单元在第一平面上的正投影不等间距排布，所述第一平面为所述曲...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。