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一种基于遗传算法的光刻衰减型掩模的优化方法属于衰减型掩模优化方法领域，该方法解决了现有技术存在的针对考虑系统所采用的照明方式下的衰减型相移掩模结构没有具体优化方法的技术问题。本发明的优化方法基于遗传算法，用掩模的空间像对比度、多层膜反射率等...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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