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本发明公开了一种适合氧化镓衬底基片抛光的专用抛光液以及该抛光液的制备方法，其制备方法为：先把1质量份的络合剂、0.5～1.5质量份的pH值调节剂和1质量份的pH稳定剂溶解于47～47.5质量份的去离子水中，待所述络合剂、pH值调节剂和pH稳...
该专利属于盐城工学院所有，仅供学习研究参考，未经过盐城工学院授权不得商用。

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