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提供对EUV光具有高透射性、具有实用上充分的物理强度和耐久性，并且能够容易地去除膜碎片、且生产率优异的表膜用膜和表膜。表膜用膜(1)由碳多孔体膜构成，膜厚D为100nm～63μm。...
该专利属于旭化成电子材料株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过旭化成电子材料株式会社授权不得商用。

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