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本发明涉及半导体制造领域，公开了一种微波退火工艺。本发明中，在功能层的第一表面和/或第二表面上形成均匀覆盖的高吸收层，借助高吸收层对微波的高吸收作用，一方面保证对功能层的均匀热传导，克服了非接触式效率低下的问题；另一方面，因为高吸收层与功能...
该专利属于复旦大学所有，仅供学习研究参考，未经过复旦大学授权不得商用。

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