温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种用于碲镉汞探测器N区横向展宽的变间距测量方法,该方法是在已经制备ZnS阻挡层和对准标记的碲镉汞红外芯片上,通过光刻工艺,设计一系列不同间距PN结的离子注入掩膜。离子注入后再通过常规工艺制备钝化层和金属化欧姆接触,剥离并获得一...该专利属于中国科学院上海技术物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海技术物理研究所授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种用于碲镉汞探测器N区横向展宽的变间距测量方法,该方法是在已经制备ZnS阻挡层和对准标记的碲镉汞红外芯片上,通过光刻工艺,设计一系列不同间距PN结的离子注入掩膜。离子注入后再通过常规工艺制备钝化层和金属化欧姆接触,剥离并获得一...