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本发明公开了一种基于多次曝光的跨尺度微结构制造方法，包括：(1)按照尺寸大小，对待加工跨尺寸微结构分类，小尺寸的结构为一级结构，大尺寸的结构为二级结构，分别制作一级结构掩膜和二级结构掩膜；(2)将掩膜置于光敏印章机内，对其内的光敏印章垫进行...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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