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本发明的实施方式提供用于在基板上沉积层的方法及设备。在一个实施方式中，该方法包括将设置在处理腔室内的基板的表面暴露于流体前驱物；把产生自辐射源的电磁辐射引导至光扫描单元，使得电磁辐射在基板的整个表面上被偏转及被扫描，材料层待形成于该基板的该...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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